[发明专利]一种SAW器件的腐蚀工艺有效
申请号: | 201310500278.0 | 申请日: | 2013-10-23 |
公开(公告)号: | CN103532510A | 公开(公告)日: | 2014-01-22 |
发明(设计)人: | 吴长春;陆锋;周一峰;张锡娟 | 申请(专利权)人: | 无锡华普微电子有限公司 |
主分类号: | H03H3/08 | 分类号: | H03H3/08 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所 32104 | 代理人: | 殷红梅 |
地址: | 214035 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种SAW器件的腐蚀工艺,特征是,包括以下工艺步骤:(1)用等离子去胶机将光刻显影后的SAW器件光刻区域的底膜扫除;(2)将扫胶后的SAW器件在120℃~150℃条件下坚膜;(3)腐蚀:将磷酸和冰乙酸混合均匀,得到腐蚀液;将坚膜后的SAW器件浸入腐蚀液中;(4)腐蚀后的SAW器件冲洗后甩干;(5)去胶:分别向三个容器中倒入丙酮,第四个容器中倒入无水乙醇;将SAW器件依次过三次丙酮和一次无水乙醇;冲洗后甩干;(6)在干燥的容器中倒入发烟硝酸,用干净、干燥的镊子一片一片夹取SAW器件放入容器中过发烟硝酸,过完发烟硝酸后,将SAW器件在花篮中用去离子水冲水后甩干。本发明提升了工作效率并降低了成本,工艺步骤简单、安全,去胶效果提高。 | ||
搜索关键词: | 一种 saw 器件 腐蚀 工艺 | ||
【主权项】:
一种SAW器件的腐蚀工艺,其特征是,包括以下工艺步骤:(1)扫胶:用等离子去胶机将光刻显影后的SAW器件上光刻区域的底膜扫除,先抽真空至5±0.5Pa,通氧气至真空度为4±1×102Pa,功率为2400±500W,时间为60±10秒;(2)坚膜:将扫胶后的SAW器件在120℃~150℃条件下坚膜30~120分钟;坚膜后冷却至室温;(3)腐蚀:将磷酸和冰乙酸按体积比5±0.5:1混合均匀,水浴加热至45±1℃,恒温25~35分钟,得到腐蚀液;将坚膜后的SAW器件浸入腐蚀液中,腐蚀时间为200~300秒;(4)腐蚀后的SAW器件用去离子水冲洗480±30秒后于离心式甩干机中吹氮气甩干,离心式甩干机的转速为1200±100转/秒,甩干时间为120±10秒,氮气的压力为0.47±0.05kg/cm2; (5)去胶:分别向三个容器中倒入丙酮,第四个容器中倒入无水乙醇;用镊子夹取SAW器件依次过三次丙酮和一次无水乙醇,每次过3~5秒;接着将过完丙酮和无水乙醇的SAW器件用去离子水冲洗480±30秒,再在离心式甩干机中吹氮甩干120±10秒,离心式甩干机的转速为1200±500转/秒,氮气的压力为0.47±0.05kg/cm2;(6)去残胶:在干燥的容器中倒入发烟硝酸,用干净、干燥的镊子一片一片夹取SAW器件放入容器中过2~3秒发烟硝酸,过完发烟硝酸后,将SAW器件在花篮中用去离子水冲水480±30秒后甩干。
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