[发明专利]一种P型绝缘栅双极型晶体管结构有效

专利信息
申请号: 201310496804.0 申请日: 2013-10-22
公开(公告)号: CN103618002A 公开(公告)日: 2014-03-05
发明(设计)人: 孙伟锋;戴伟楠;杨卓;孙华芳;祝靖;陆生礼;时龙兴 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/06
代理公司: 江苏永衡昭辉律师事务所 32250 代理人: 王斌
地址: 214135 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种P型绝缘栅双极型晶体管,包括:兼做集电区的N型掺杂硅衬底,在N型掺杂硅衬底下方设有集电极金属,在N型掺杂硅衬底上方依次设有P型掺杂硅缓冲层和P型轻掺杂硅外延层,在P型轻掺杂硅外延层内设有和N型柱,在N型掺杂半导体区中设有P型和N型重掺杂半导体区,在N型柱中设有N型重掺杂半导体区,在N型柱和P型轻掺杂硅外延层之间设有介质层,在P型轻掺杂硅外延层上方依次设有栅氧化层和多晶硅栅,且多晶硅栅始于介质层的上方并止于与介质层相邻的P型重掺杂半导体区的上方,在多晶硅栅上方依次设有氧化层和发射极金属,且P型和N型重掺杂半导体区均与发射极金属电连接。
搜索关键词: 一种 绝缘 栅双极型 晶体管 结构
【主权项】:
一种P型绝缘栅双极型晶体管结构,包括兼做集电区的N型掺杂硅衬底(2),在N型掺杂硅衬底(2)下方设有集电极金属(1),在N型掺杂硅衬底(2)上方设有P型掺杂硅缓冲层(3),在P型掺杂硅缓冲层(3)上方设有P型轻掺杂硅外延层(4),在P型轻掺杂硅外延层(4)内设有N型掺杂半导体区(7),在N型掺杂半导体区(7)中设有P型重掺杂半导体区(8)和N型重掺杂半导体区(9),其特征在于,在P型轻掺杂硅外延层(4)内还设有N型柱(5),在N型柱(5)和P型轻掺杂硅外延层(4)之间设有介质层(6),在N型柱(5)中也设有N型重掺杂半导体区(9),在P型轻掺杂硅外延层(4)上方设有栅氧化层(10),在栅氧化层(10)上方设有多晶硅栅(11),并且,所述多晶硅栅(11)始于介质层(6)的上方并止于与介质层(6)相邻的P型重掺杂半导体区(8)的上方,在多晶硅栅(11)上方设有氧化层(12),在氧化层(12)上方设有发射极金属(13),P型重掺杂半导体区(8)和N型重掺杂半导体区(9)与发射极金属(13)电连接。
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