[发明专利]掩模板及利用掩模板进行光刻和测量步进精度的方法

摘要

本发明公开了一种掩模板及利用掩模板进行光刻和测量步进精度的方法，用以解决现有技术中存在的测量步进精度过程复杂的问题。该掩模板包括：位于矩形曝光区域内、用于使光刻胶在经过光刻后被保留的第一步进精度测量图案和第三步进精度测量图案，以及位于矩形曝光区域内、用于使光刻胶在经过光刻后被刻蚀的第二步进精度测量图案和第四步进精度测量图案。

主权项

1.一种掩模板，其特征在于，以所述掩模板的矩形曝光区域的中心为坐标原点，X轴与矩形曝光区域的一对边平行，Y轴与矩形曝光区域的另一对边平行的X‑Y坐标系中，所述掩模板包括：位于所述矩形曝光区域内、用于使光刻胶在经过光刻后被保留的第一步进精度测量图案和第三步进精度测量图案，以及位于所述矩形曝光区域内、用于使光刻胶在经过光刻后被刻蚀的第二步进精度测量图案和第四步进精度测量图案；所述第一步进精度测量图案和所述第二步进精度测量图案位于Y轴两侧、在Y轴上的投影有重叠，且均有两条垂直于X轴的平行边线，所述第一步进精度测量图案的两条垂直于X轴的平行边线之间的距离大于所述第二步进精度测量图案的两条垂直于X轴的平行边线之间的距离；所述第一步进精度测量图案的中心与所述第二步进精度测量图案的中心在X轴上投影的距离为光刻机在X方向的步进长度；所述第三步进精度测量图案和所述第四步进精度测量图案位于X轴两侧、在X轴上的投影有重叠，且均有两条垂直于Y轴的平行边线，所述第三步进精度测量图案的两条垂直于Y轴的平行边线之间的距离大于所述第四步进精度测量图案的两条垂直于Y轴的平行边线之间的距离；所述第三步进精度测量图案的中心与所述第四步进精度测量图案的中心在Y轴上投影的距离为光刻机在Y方向的步进长度。