[发明专利]一种带有三个大位阻取代基C2对称旋光氨基二醇及制备方法和用途有效
| 申请号： | 201310467843.8 | 申请日： | 2013-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN103524359A | 公开（公告）日： | 2014-01-22 |
| 发明（设计）人： | 阳年发;张安林;杨利文;陈叶辉 | 申请（专利权）人： | 湘潭大学 |
| 主分类号： | C07C215/12 | 分类号： | C07C215/12;C07C213/04;C07C33/22;C07C29/40;C07C39/11;C07C37/20;C07C43/23;C07C41/30;C07C33/30;C07D213/30;C07C33/46;C07C33/18;C07C33/24 |
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| 地址： | 411105 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种带有三个大位阻取代基C2对称旋光氨基二醇及制备方法和用途，所述的带有三个大位阻取代基的C2对称的旋光氨基二醇是手性碳为R构型或手性碳为S构型的结构，可以对映选择性诱导烃基金属有机化合物对醛基的加成反应；通过调节成过程中所使用的非手性试剂中的R1和R2的空间位阻大小来调节加成反应产物e.e.值；在适当的R1和R2的组合下对映选择性诱导的醛基的加成反应产物的e.e.值高达98％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 带有 三个 大位阻 取代 sub 对称 氨基 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
1.一种带有三个大位阻取代基的C2对称的旋光的氨基二醇，其特征在于：所述的带有三个大位阻取代基的C2对称的旋光氨基二醇是手性碳为R构型(I式)或手性碳为S构型(II式)的结构，其通式为：![]()
式中：R1、R2是具有大位阻的烃基。
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