[发明专利]电光学装置、电光学装置用基板及电子设备有效

专利信息
申请号: 201310451090.1 申请日: 2009-09-18
公开(公告)号: CN103558709A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 川上泰 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1343
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 刘建
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种具备提高反射性电极的反射率并且即使采用向液晶层施加交流电场的方式也不会发生烧焦等不良情况的电光学装置及具备该电光学装置的电子设备。在电光学装置(100)中,由于在像素电极(9a)(反射性电极)的上层形成有由多层电介质膜(低折射率层181和高折射率层182)构成的第一电介质层(18),因此基于像素电极(9a)的反射率高。另外,由于在像素电极(9a)的上层形成有电介质多层膜,因此若在公共电极(21)的上层形成第二电介质层(28),则能够使像素电极(9a)侧与公共电极(21)侧的功函数一致或使其近似,所以即使交流驱动液晶层(50),也能在液晶层(50)中形成对称的电场。
搜索关键词: 光学 装置 用基板 电子设备
【主权项】:
一种电光学装置,其特征在于,包含:第1基板;第2基板,其与所述第1基板对置地配置,使光透过;液晶,其配置在所述第1基板与所述第2基板之间;第1电极,其配置在所述第1基板与所述液晶之间,对光进行反射;第2电极,其配置在所述第2基板与所述液晶之间,使光透过;第1电介质层,其配置在所述第1电极与所述液晶之间;和第2电介质层,其配置在所述第2电极与所述液晶之间,所述第1电介质层,包含具有第1折射率的第1折射率层和具有比所述第1折射率大的第2折射率的第2折射率层,所述第1折射率层配置在所述第2折射率层与所述第1电极之间。
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