[发明专利]一种MOCVD自动化控制系统有效
申请号: | 201310426749.8 | 申请日: | 2013-09-18 |
公开(公告)号: | CN103526189A | 公开(公告)日: | 2014-01-22 |
发明(设计)人: | 王劼;张立国;范亚明;张洪泽 | 申请(专利权)人: | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52 |
代理公司: | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人: | 王锋 |
地址: | 215123 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种MOCVD自动化控制系统,包括执行模块和控制模块,该执行模块包括分别用于控制反应室内温度、压力、气体流量的温度控制模块、压力控制模块、流量控制模块,该控制模块可通过PID算法控制执行模块,该控制模块的扫描单元实时扫描所述执行模块,并自动记录扫描得到的执行信息到内置信息记录单元,同时传送执行信息至与控制模块连接的人机界面模块。本发明自动化程度高,可以自动检查和模拟MOCVD工艺,实现对MOCVD工艺的调整和优化,并且无需生长经验也可操作使用,同时能够大幅减轻工艺人员的工作量,还可以大大节省工艺搜索带来的能源,原材料及人力的巨大浪费。 | ||
搜索关键词: | 一种 mocvd 自动化 控制系统 | ||
【主权项】:
一种MOCVD自动化控制系统,其特征在于,它包括:执行模块,包括分别用于控制反应室内温度、压力和气体流量的温度控制模块、压力控制模块和流量控制模块,至少用以控制所述执行模块的控制模块,包括扫描单元和信息记录单元,以及,与控制模块连接的人机界面模块,其中,所述扫描单元至少实时扫描所述执行模块内的温度控制模块、压力控制模块和流量控制模块,并自动记录扫描得到的执行信息至所述信息记录单元,同时传送执行信息至所述人机界面模块。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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