[发明专利]多层线圈的制造方法有效
申请号: | 201310412807.1 | 申请日: | 2013-09-11 |
公开(公告)号: | CN104347262B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | 王钟雄;江朗一;张炜谦;林雨欣 | 申请(专利权)人: | 乾坤科技股份有限公司 |
主分类号: | H01F41/04 | 分类号: | H01F41/04;H01F17/04;H01F27/28 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司44223 | 代理人: | 江耀纯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种多层线圈的制造方法及磁性装置,多层线圈的制造方法包括提供基板;于基板上形成种子层;以及根据N个阈值范围以N个电流密度于种子层上电镀N个线圈层,以于基板上形成多层线圈,其中N个电流密度中的第i个电流密度小于第i+1个电流密度,N是大于1的正整数,且i是小于或等于N的正整数。N个线圈层中的第1个线圈层是以N个电流密度中的第1个电流密度电镀于种子层上。当N个线圈层中的第i个线圈层的纵横比介于N个阈值范围中的第i个阈值范围之间时,以第i+1个电流密度于第i个线圈层上电镀第i+1个线圈层。本发明是以变动电流密度于基板上电镀形成多层线圈,可有效提高磁性装置的电性。 | ||
搜索关键词: | 多层 线圈 制造 方法 磁性 装置 | ||
【主权项】:
一种多层线圈的制造方法,其特征在于,包括:提供基板;于所述基板上形成种子层;以及根据N个阈值范围以N个电流密度于所述种子层上电镀N个线圈层,以于所述基板上形成多层线圈,所述N个电流密度中的第i个电流密度小于第i+1个电流密度,N是大于1的正整数,i是小于或等于N的正整数;其中,所述N个线圈层中的第1个线圈层是以所述N个电流密度中的第1个电流密度电镀于所述种子层上;当所述N个线圈层中的第i个线圈层的纵横比介于所述N个阈值范围中的第i个阈值范围之间时,以第i+1个电流密度于所述第i个线圈层上电镀第i+1个线圈层。
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