[发明专利]多层线圈的制造方法有效
| 申请号： | 201310412807.1 | 申请日： | 2013-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN104347262B | 公开（公告）日： | 2017-04-12 |
| 发明（设计）人： | 王钟雄;江朗一;张炜谦;林雨欣 | 申请（专利权）人： | 乾坤科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01F41/04 | 分类号： | H01F41/04;H01F17/04;H01F27/28 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司44223 | 代理人： | 江耀纯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多层 线圈 制造 方法 磁性 装置 | ||
1.一种多层线圈的制造方法，其特征在于，包括：
提供基板；
于所述基板上形成种子层；以及
根据N个阈值范围以N个电流密度于所述种子层上电镀N个线圈层，以于所述基板上形成多层线圈，所述N个电流密度中的第i个电流密度小于第i+1个电流密度，N是大于1的正整数，i是小于或等于N的正整数；
其中，所述N个线圈层中的第1个线圈层是以所述N个电流密度中的第1个电流密度电镀于所述种子层上；当所述N个线圈层中的第i个线圈层的纵横比介于所述N个阈值范围中的第i个阈值范围之间时，以第i+1个电流密度于所述第i个线圈层上电镀第i+1个线圈层。
2.如权利要求1所述的多层线圈的制造方法，其特征在于，所述多层线圈呈螺旋形而形成多个圈环，且每两个圈环之间的间隙小于30微米。
3.如权利要求2所述的多层线圈的制造方法，其特征在于，每两个圈环之间的间隙小于10微米。
4.如权利要求1所述的多层线圈的制造方法，其特征在于，所述多层线圈的纵横比大于1.5，且所述多层线圈的高度大于70微米。
5.一种磁性装置，其特征在于，包括：
基板；
多层线圈，形成于所述基板上，所述多层线圈由N个线圈层堆栈而成，所述N个线圈层中的第i个线圈层的纵横比小于第i+1个线圈层的纵横比，N是大于1的正整数，i是小于或等于N的正整数；以及
磁性体，完全包覆所述基板与所述多层线圈。
6.如权利要求5所述的磁性装置，其特征在于，所述多层线圈呈螺旋形而形成多个圈环，且每两个圈环之间的间隙小于30微米。
7.如权利要求6所述的磁性装置，其特征在于，每两个圈环之间的间隙小于10微米。
8.如权利要求5所述的磁性装置，其特征在于，所述多层线圈的纵横比大于1.5，且所述多层线圈的高度大于70微米。
9.如权利要求5所述的磁性装置，其特征在于，所述磁性装置还包括绝缘保护层，形成于所述多层线圈上及所述多层线圈之间。
10.如权利要求5所述的磁性装置，其特征在于，所述磁性装置还包括导电柱以及电极，所述电极形成于所述磁性体上，所述导电柱电性连接所述多层线圈与所述电极。
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