[发明专利]一种超声波协同二氧化碳制备高纯单分散二氧化硅的方法有效

专利信息
申请号: 201310408668.5 申请日: 2013-09-10
公开(公告)号: CN103466641A 公开(公告)日: 2013-12-25
发明(设计)人: 谢刚;和晓才;李怀仁;魏可;余强;李永刚;徐庆鑫;刁微之;闫森;陈家辉;崔涛;陈加希;杨大锦;包崇军;于站良 申请(专利权)人: 昆明冶金研究院
主分类号: C01B33/113 分类号: C01B33/113
代理公司: 昆明知道专利事务所(特殊普通合伙企业) 53116 代理人: 姜开侠
地址: 650031 *** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明公开了一种超声波协同二氧化碳制备高纯单分散二氧化硅的方法,包括净化除杂、超声波碳分、超声波酸洗、水洗和气流粉碎干燥步骤,具体包括:向置于容器中的偏硅酸钠溶液中加入CaO粉末,将容器置于超声波洗涤机内进行恒温搅拌碱洗,固液分离后得到高纯偏硅酸钠溶液;向碳酸钠溶液中通入CO2气体和碱洗后的高纯偏硅酸钠溶液进行超声波碳酸化分解,固液分离得到偏硅酸沉淀和碳酸钠溶液;将偏硅酸沉淀溶入50~55g/L的盐酸中,在超声波反应器内进行煮沸酸洗;将酸洗后偏硅酸用去离子水进行洗涤;将洗涤后的高纯偏硅酸用气流粉碎干燥,得到高纯单分散二氧化硅微粉。本发明可缩短现有技术的碳分沉淀时间,制得的二氧化硅微粉纯度高,粒度小,分散性好。
搜索关键词: 一种 超声波 协同 二氧化碳 制备 高纯 分散 二氧化硅 方法
【主权项】:
一种超声波协同二氧化碳制备高纯单分散二氧化硅的方法,其特征在于包括净化除杂、超声波碳分、超声波酸洗、水洗和气流粉碎干燥步骤,具体包括:A、净化除杂:将SiO2浓度为50~60g/L的偏硅酸钠溶液置于容器中,按2~5g/L用量向偏硅酸钠溶液中加入CaO粉末,将容器置于超声波洗涤机内进行恒温搅拌碱洗,经固液分离后得到滤渣和高纯偏硅酸钠溶液;B、超声波碳分:在超声波洗涤槽内,向碳酸钠溶液中同时均匀通入99%CO2气体和碱洗后的高纯偏硅酸钠溶液进行碳酸化分解,反应结束后经固液分离得到偏硅酸沉淀和碳酸钠溶液,碳酸钠溶液返回超声波碳分步骤;C、超声波酸洗:将偏硅酸沉淀溶入50~55g/L的盐酸中,在超声波反应器内进行煮沸酸洗; D、水洗:将酸洗后偏硅酸用去离子水进行洗涤,水洗至滤液呈中性,得到高纯偏硅酸;E、气流粉碎干燥:将洗涤后的高纯偏硅酸用气流粉碎干燥,烘干至自由水含量≤3%,获得高纯单分散二氧化硅微粉。
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