[发明专利]一种用于ITO/FTO/AZO导电玻璃上具有强选择性的新型化学镀镍法有效
申请号: | 201310385683.2 | 申请日: | 2013-08-29 |
公开(公告)号: | CN103526192A | 公开(公告)日: | 2014-01-22 |
发明(设计)人: | 梅天庆;任春春;项腾飞 | 申请(专利权)人: | 南京航空航天大学 |
主分类号: | C23C18/36 | 分类号: | C23C18/36;C23C18/28;C23C18/30;C23C18/18 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 楼高潮 |
地址: | 210001 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供一种在ITO/FTO/AZO导电玻璃上强选择性的新型化学镀镍法,具体步骤包括除油、刻蚀、催化、活化、还原、化学镀镍,本发明的创新之处在于镀前处理液、处理的顺序及化学镀镍液,其中镀前处理液包括催化液与活化液。本发明的方法用于各种显示屏和触摸屏上导电玻璃的金属化及边缘导电玻璃的金属化,普通玻璃和导电玻璃保护膜上完全没有金属沉积。镀镍层的光泽度、结合力、导电性能好,适用于各种ITO/FTO/AZO产品的金属化。本发明所提供的新型化学镀镍法具有极强的选择性,只在目标基体ITO/FTO/AZO上沉积金属镍,覆盖率可达100%,比现有磁控溅射的方法生产成本低,速度快,设备投资少,且其所有步骤所配的溶液稳定性好,可长时间使用。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 ito fto azo 导电 玻璃 具有 选择性 新型 化学 镀镍法 | ||
【主权项】:
一种用于ITO/FTO/AZO导电玻璃上具有强选择性的新型化学镀镍法,包括以下步骤:(1)除油:将导电玻璃放入乙醇溶液中清洗1‑5分钟,再放入除油液中,除油液配方包括5~35 g/L NaOH、10~50g/L Na3PO4、5~30g/L Na2CO3、0.01~1g/L十二烷基苯磺酸钠、蒸馏水;在20‑40℃条件下除油3‑10分钟,然后用自来水清洗或去离子水清洗;(2)刻蚀:将除油后的导电玻璃放入刻蚀液中,蚀刻液配方包括10~60g/L Na2SO4、0.5~5ml/L浓H2SO4、1~10g/L氟化物、5~40g/L柠檬酸、20~60g/L过二硫酸盐和/或过二硫酸氢盐、蒸馏水,所述氟化物指的是含有氟离子的无机盐或者无机酸;;在20‑40℃条件下2‑7分钟,然后将导电玻璃放入去离子水中并清洗1‑3分钟;(3)催化:将刻蚀后的导电玻璃放入催化液中,催化液配方包括总质量分数为 1%~20%的亚铜盐、乙酸、丙酸、羟基乙酸、乳酸、乙二酸、丙二酸、丁二酸、柠檬酸、2‑氨基吡啶、氰化钠,亚锡盐中的一种或者几种所构成的溶液、蒸馏水;在20‑40℃条件下催化2‑10分钟,然后将导电玻璃直接浸泡于活化液中;(4)活化:将催化后的导电玻璃放入活化液中,活化液配方包括总质量分数为0.1%~0.5% 的PdCl2、0.1%~20%的乙酸、丙酸、羟基乙酸、乳酸、乙二酸、丙二酸、丁二酸、柠檬酸、2‑氨基吡啶、盐酸中的一种、蒸馏水;在20‑40℃条件下活化2‑10分钟,然后将导电玻璃放入去离子水中浸洗1‑2分钟;(5)还原:将活化后的导电玻璃放入还原液中,还原液配方包括10‑20g/L 10~50g/L次磷酸钠、蒸馏水;在20‑40℃下还原1‑5分钟,在去离子水中浸洗1‑2分钟;(6)化学镀镍:将还原后的导电玻璃放入化学镀液中,化学镀液配方包括30 g/L NiSO4·6H2O、8 g/L柠檬酸、 30g/L NaH2PO2·H2O、10 g/L乙酸钠、12ml/L乳酸、4g/L丁二酸、1.2~1.6mg/l醋酸铅,pH=4.4~5.0;在75‑85℃条件下施镀1‑6分钟,后用自来水清洗,再用去离子水清洗,最后吹干或烘干,至此即可制得在导电玻璃面上镀有附着力良好的镍金属层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
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