[发明专利]用于光学邻近校正模型的校准数据收集方法和系统有效
| 申请号： | 201310371044.0 | 申请日： | 2013-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN104423142B | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 蔡博修 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 鲍进 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于光学邻近校正模型的校准数据收集方法和系统。根据本发明一个方面的校准数据收集方法包括从起始块开始，逐块扫描晶片上的所有块以形成每个块的扫描图像；将全部块的扫描图像缝合成缝合图像；将晶片的布局数据映射到所述缝合图像上；以及测量所述缝合图像上预选位置的图像以获得校准数据。通过使用本方法，使得能够自动执行光学邻近校正模型的校准数据收集，而无需“点到点”的人工复本创建，实现了完全的数据质量置信度以及数据的可重复性，从而提高了效率、时间和成本。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 邻近 校正 模型 校准 数据 收集 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种用于光学邻近校正模型的校准数据收集方法，包括：从起始块开始，逐块扫描晶片上的所有块以形成每个块的扫描图像；将全部块的扫描图像缝合成缝合图像；将晶片的布局数据映射到所述缝合图像上；以及测量所述缝合图像上预选位置的图像以获得校准数据。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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