[发明专利]管式PECVD镀膜时间自动生成方法无效
申请号: | 201310358572.2 | 申请日: | 2013-08-15 |
公开(公告)号: | CN103436863A | 公开(公告)日: | 2013-12-11 |
发明(设计)人: | 薛安俊;姚剑;潘炜;赵全权;张良;马翔 | 申请(专利权)人: | 镇江大全太阳能有限公司 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52 |
代理公司: | 镇江京科专利商标代理有限公司 32107 | 代理人: | 夏哲华 |
地址: | 212211 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发涉及一种管式PECVD镀膜时间自动生成方法。本发明的方法中,正常镀膜生产过程中,设定一个目标膜厚值Th,a.设定一个参与自动计算的舟的轮数值m;第1舟的镀膜时间设定为T1,第m舟的镀膜时间Tm=Th×(Tm-1+Tm-2…+T1)/(Thm-1+Thm-2…+Th1);b.第m舟镀膜完成后的第n舟镀膜时间Tn=Th×(Tn-1+Tn-2…+Tn-m)/(Thn-1+Thn-2…+Thn-m)。本发明能够通过软件编程,自动计算单个石墨舟前若干轮镀膜的平均膜厚,并及时将计算数值与设定膜厚进行对比,通过计算给出该舟下一轮的工艺时间,实现生产过程镀膜沉积膜厚的精确控制。 | ||
搜索关键词: | pecvd 镀膜 时间 自动 生成 方法 | ||
【主权项】:
一种管式PECVD镀膜时间自动生成方法,其特征是:包括下步骤(1)在管式PECVD镀膜生产过程中,将管式镀膜设备、自动下料机设备、膜厚测试设备分别与计算机连接,以单个石墨舟为单位,通过电脑采集的上述设备的信息,由软件生成该石墨舟舟号;(2)正常镀膜生产过程中,设定一个目标膜厚值Th,用带下标的Th表示下标值对应的石墨舟镀膜舟次检测的实际膜厚值;石墨舟的首次镀膜时间采用人为设定方式予以实现;完成首次输入后,自第二舟起,所需镀膜时间自动计算完成;具体计算方法是:a.获取初始值,即设定一个参与自动计算的舟的轮数值m,m大于2;第1舟的镀膜时间设定为T1,第2舟的镀膜时间T2=Th×T1/Th1 ,第3舟的镀膜时间T3=Th×(T2+T1)/(Th2+Th1),以此类推,第m舟的镀膜时间Tm=Th×(Tm‑1+Tm‑2…+T1)/(Thm‑1+Thm‑2…+Th1); b.第m舟镀膜完成后的第n舟镀膜时间Tn=Th×(Tn‑1+Tn‑2…+Tn‑m)/(Thn‑1+Thn‑2…+Thn‑m);n大于m。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于镇江大全太阳能有限公司,未经镇江大全太阳能有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310358572.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种污水处理曝气管道装置
- 下一篇:用于自携式呼吸器装具的改进的旋转式腰垫
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的