[发明专利]二硒吩并苯并二茚类共轭聚合物半导体材料及其应用有效

专利信息
申请号: 201310351686.4 申请日: 2013-08-13
公开(公告)号: CN103408733A 公开(公告)日: 2013-11-27
发明(设计)人: 肖生强;蒋尊龙;詹春;芦露华 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: C08G61/12 分类号: C08G61/12;H01L51/46
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 崔友明
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于有机半导体材料领域,具体的是涉及二硒吩并苯并二茚类共轭聚合物半导体材料及其在光电器件中的应用,其结构通式如通式I所示:其中,R是H、C1~C20的烷基或烷氧基,n为聚合度,为2~100的任一整数,本发明进一步提供上述共轭聚合物材料在有机太阳能电池器件、有机光电材料、有机场效应晶体管器件、有机电致发光器件、有机光存储器件、有机激光器件中的应用,所得共轭聚合物材料具有可控的能级结构、可调的帯隙、宽的光谱吸收范围和高空穴迁移率的优点。
搜索关键词: 二硒吩 二茚类 共轭 聚合物 半导体材料 及其 应用
【主权项】:
1.基于二硒吩并苯并二茚衍生物的共轭聚合物材料,其结构通式如通式I所示:其中,其中,R是H、C1~C20的烷基或烷氧基,n为聚合度,为2~100的任一整数,共聚结构单元A选自如下结构中的一种:式中,A单元结构中R7、R8、R9、R10、R11、R12、R15、R16、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R37、R38选自H、C1~C20的烷基或烷氧基;R13、R14、R17、R18、R19、R20、R35、R36、R39选自C1~C20的烷基或烷氧基;m为重复单元数,m=1~20的任一整数;Y选自H、F中任一种原子。
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