[发明专利]形成图案的方法在审
| 申请号： | 201310347129.5 | 申请日： | 2013-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN104345576A | 公开（公告）日： | 2015-02-11 |
| 发明（设计）人： | 童宇诚 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/033 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种形成图案的方法。首先，提供N种不同的光掩模图案。然后，以至少N-1种不同波长的光源，将所述N种不同的光掩模图案转移到硬掩模层上，形成硬掩模图案，其中所述至少N-1种不同波长的光源之一为波长是193nm的光源，且N为大于等于3的整数。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
一种形成图案的方法，其特征在于包括:提供N种不同的光掩模图案；以及以至少N‑1种不同波长的光源，将所述N种不同的光掩模图案转移到硬掩模层上，形成硬掩模图案，其中所述至少N‑1种不同波长的光源之一为波长是193nm的光源，且N为大于等于3的整数。
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