[发明专利]电感耦合等离子体处理装置无效
| 申请号： | 201310346831.X | 申请日： | 2013-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN103917036A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 李炅锡;丘炳熙;金正泰;孙东植;李庆汉;林正焕;崔智淑 | 申请（专利权）人： | 丽佳达普株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 姜虎;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明的电感耦合等离子体处理装置，具备：腔室；电介质窗，位于腔室上部；天线，安装在电介质窗的上侧；以及天线支撑架，用于支撑天线，且处于接地，所述天线具备：从电源延伸出的主干部；多个第一总线圈，从主干部分支而成；至少一个第二总线圈，从第一总线圈的末端分支而成；多个源线圈，从第二总线圈分支而成，且各末端与天线支撑架形成接地，所述第二总线圈上分别安装有第二总线圈可变电容器控制装置。根据本发明的电感耦合等离子体处理，能够精密地控制连接在每个源线圈上以进行调节阻抗的可变电容器的动作，从而能够有效地控制多个源线圈的阻抗，并且通过将多个可变电容器设置在源线圈的入口端和总线圈上，能够精密地控制阻抗。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种电感耦合型等离子体处理装置，其特征在于，具备：腔室；电介质窗，位于所述腔室的上部；天线，安装在所述电介质窗的上侧；以及天线支撑架，用于支撑所述天线，且处于接地，所述天线具备：从电源延伸出的主干部；多个第一总线圈，从所述主干部分支而成；至少一个第二总线圈，从所述第一总线圈的末端分支而成；多个源线圈，从所述第二总线圈分支而成，且各末端与所述天线支撑架形成接地，所述第二总线圈上分别安装有第二总线圈可变电容器控制装置。
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