[发明专利]一种制造气体敏感复合纳米薄膜的方法无效
申请号: | 201310343727.5 | 申请日: | 2013-08-09 |
公开(公告)号: | CN103469202A | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | 杨亚杰;张鲁宁;杨文耀;张波;徐建华;李世彬;蒋亚东 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | C23C28/00 | 分类号: | C23C28/00;C23C24/02;C23C14/12;C23C14/24 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 谭新民 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种制造气体敏感复合纳米薄膜的方法,包括:制备氧化石墨烯分散溶液;用LB成膜法,用该氧化石墨烯分散溶液形成纳米薄膜,然后将所述纳米薄膜转移到气敏器件上;对纳米薄膜进行还原处理;然后在还原处理后的纳米薄膜上蒸镀导电聚合物层。根据本发明的方法制造的气体敏感纳米薄膜具有良好的气敏性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 制造 气体 敏感 复合 纳米 薄膜 方法 | ||
【主权项】:
一种制造气体敏感复合纳米薄膜的方法,其特征在于,包括:将氧化石墨烯分散于有机溶剂中,形成氧化石墨烯分散溶液;将所述氧化石墨烯分散溶液滴加于LB膜槽中的超纯水表面,使氧化石墨烯分散铺展于所述超纯水表面;用滑障将铺展于所述超纯水表面的氧化石墨烯压缩到成膜模压,形成纳米薄膜,然后将所述纳米薄膜转移到气敏器件上;对所述纳米薄膜进行还原处理;在还原处理后的所述纳米薄膜上蒸镀导电聚合物层。
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