[发明专利]一种基于辐射标定的亚像素光学元件损伤在线检测方法有效
申请号: | 201310328928.8 | 申请日: | 2013-07-31 |
公开(公告)号: | CN103389310A | 公开(公告)日: | 2013-11-13 |
发明(设计)人: | 刘国栋;冯博;刘炳国;庄志涛;卢丙辉 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人: | 杨立超 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 一种基于辐射标定的亚像素光学元件损伤在线检测方法,本发明涉及光学元件在线检测领域,尤其涉及大型光学系统大口径光学元件快速在线检测的方法。本发明是要解决现有在线检测方法不能得到在线检测图像中损伤的高精度尺寸的问题。一、建立样本集;二、估算样品集非离群点概率ε;三、从样本集D中随机抽取M组小样本;四、通过交叉验证法建立一系列LSSVM回归模型{f(W1),...,f(Wm),...,f(WM)};五、通过样本集D,选取合适的误差评价函数Z(x)逐一验证回归模型{f(W1),...,f(Wm),...,f(WM)};六、得到全部损伤区域的高精度亚像素尺寸。本发明应用于光学元件在线检测领域。 | ||
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【主权项】:
1.一种基于辐射标定的亚像素光学元件损伤在线检测方法,其特征在于基于辐射标定的亚像素光学元件损伤在线检测方法包括以下内容:一、通过传统在线检测方法得到光学元件全部损伤区域的总灰度后,随机抽取N个损伤区域,在离线检测系统中得到损伤区域的准确尺寸,建立样本集D={(x1,y2),....,(xk,yk),....,(xN,yN)},xk,yk∈R;其中xk为在线图像中各损伤区域的总灰度,yk为损伤区域在高精度离线系统下获得的高精度尺寸;二、估算样品集非离群点概率ε,通过式
计算需要进行随机抽样的组数M;三、从样本集D中随机抽取M组小样本{W1(x1,1,y1,1,...,x1,I,y1,I),...,Wm(xm,1,ym,1,...,xm,Iym,I),...,WM(xM,1,yM,1,...,xM,I,yM,I)},Wm∈D;四、将一定数量损伤区域的精确尺寸与损伤区域在线检测方法得到光学元件全部损伤区域的总灰度作为样本建立回归模型,通过交叉验证法建立一系列LSSVM回归模型{f(W1),...,f(Wm),...,f(WM)};五、通过样本集D,选取合适的误差评价函数Z(x)逐一验证回归模型[f(W1),...,f(Wm),...,f(WM)},得到误差评价结果{Z(f(W1)),...,Z(f(Wm)),...,Z(f(WM))};其中,Zmin=min{Z(f(W1)),...,Z(f(Wm)),...,Z(f(WM))}所对应的样本集Wmin即为一组无离群点样本集,由该样本集建立的回归模型f(Wmin)即为最优回归模型;六、在进行检测该光学元件时,首先将检测条件调整到与建模时相同,通过像素级检测算法得到全部损伤区域的总灰度,带入到第五步中的回归模型f(Wmin)中,即可得到全部损伤区域的高精度亚像素尺寸。
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