[发明专利]对准标记的成像和测量装置、光刻装置有效
| 申请号： | 201310315310.8 | 申请日： | 2013-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN104345571A | 公开（公告）日： | 2015-02-11 |
| 发明（设计）人： | 刘洋;蔡博修 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种对准标记的成像和测量装置、曝光装置，对准标记的成像和测量装置包括：相干光源，用于产生照射光；偏振分束器，将相干光源发射的照射光反射形成水平线偏振光；1/4波片，将入射的水平线偏振光转化为圆偏振光；第一凸镜单元，将圆偏振光聚焦在对准标记表面，圆偏振光在对准标记表面发生反射和衍射，形成零阶光和衍射光，零阶光和衍射光通过第一凸镜单元、1/4波片、偏振分束器传输；第二凸镜单元，将透过偏振分束器的零阶光和衍射光聚焦于成像单元上；相移单元，将透过第二凸镜单元的零阶光的相位转变为与透过第二凸镜单元的衍射光同相位；滤光单元，衰减透过相移单元的零阶光的强度。对准标记的成像和测量装置的对准的精度和效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 标记 成像 测量 装置 光刻 | ||
【主权项】：
一种对准标记的成像和测量装置，其特征在于，包括：从下到上依次分布的第一凸镜单元、1/4波片、偏振分束器、第二凸镜单元、相移单元、滤光单元、成像单元，以及位于偏振分束器一侧的相干光源，其中：相干光源，用于产生照射光；偏振分束器，将相干光源发射的照射光反射形成水平线偏振光；1/4波片，用于将入射的水平线偏振光转化为圆偏振光；第一凸镜单元，用于将圆偏振光聚焦在对准标记表面，圆偏振光在对准标记表面发生反射和衍射，形成零阶光和衍射光，零阶光和衍射光通过第一凸镜单元和1/4波片后转化为垂直偏振的零阶光和衍射光，垂直偏振的零阶光和衍射光透过偏振分束器；第二凸镜单元，用于将透过偏振分束器的零阶光和衍射光聚焦于成像单元上；相移单元，用于将透过第二凸镜单元的零阶光的相位转变为与透过第二凸镜单元的衍射光同相位；滤光单元，用于衰减透过相移单元的零阶光的强度。
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