[发明专利]电感耦合线圈及等离子体加工设备有效
| 申请号： | 201310313819.9 | 申请日： | 2013-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN104347336B | 公开（公告）日： | 2017-02-08 |
| 发明（设计）人： | 韦刚 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01F38/14 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人： | 彭瑞欣,张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种电感耦合线圈及等离子体加工设备。本发明提供的电感耦合线圈包括径向截面不同的中心部和边缘部。在本发明提供的电感耦合线圈中，中心部或边缘部的径向截面使其通过感性耦合可以在反应腔室的中心区域或边缘区域中产生强度较强的涡旋电场，而通过容性耦合产生的静电场的强度较弱，从而可以减弱反应腔室中心区域或边缘区域的电流驻波效应，进而可以提高等离子体的密度及分布均匀性；边缘部或中心部的径向截面使其通过容性耦合可以在反应腔室的边缘区域或中心区域产生较强的静电场，从而不仅可以增大工艺窗口，而且可以在较低的射频功率下实现等离子体的辉光放电，进而可以降低激励电源的能量消耗。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 线圈 等离子体 加工 设备 | ||
【主权项】：
一种电感耦合线圈，其特征在于，所述电感耦合线圈包括径向截面不同的中心部和边缘部；所述中心部由纵向长度与横向长度比大于1的第一线圈组成；所述边缘部由纵向长度与横向长度比小于1的第二线圈组成；所述中心部的所述第一线圈的纵向长度大于所述边缘部的所述第二线圈的纵向长度，且所述中心部的所述第一线圈的横向长度小于所述边缘部的所述第二线圈的横向长度。
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