[发明专利]在基底上沉积层体系的涂布方法和具有层体系的基底在审
| 申请号： | 201310313395.6 | 申请日： | 2013-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN104060225A | 公开（公告）日： | 2014-09-24 |
| 发明（设计）人： | J·费特尔;G·埃尔肯斯;J·米勒 | 申请（专利权）人： | 苏舍梅塔普拉斯有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李连涛;万雪松 |
| 地址： | 德国贝吉施*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及在基底(1)上沉积由硬质材料层形成的层体系(S)的涂布方法，其包括下列方法步骤：提供可抽空的工艺室(2)，该工艺室具有含蒸发材料(M1)的阴极真空电弧蒸发源(Q1)和具有含放电材料(M2)的磁控放电源(Q2)，其中所述磁控放电源(Q2)可在HIPIMS模式下操作。随后仅利用阴极真空电弧蒸发源(Q1)在阴极真空电弧蒸发工艺中在基底(1)的表面上沉积至少一个包含所述蒸发材料(M1)的接触层(S1)。根据本发明，在沉积该接触层(S1)后，通过阴极真空电弧蒸发源(Q1)和磁控放电源(Q2)的平行操作，以纳米结构混合层形式，特别地以混合相中的纳米层中间层(S2)形式或以纳米复合层形式，沉积至少一个包含所述蒸发材料(MI)和所述放电材料(M2)的中间层(S2)。在此方面，所述磁控放电源(Q2)在HIPIMS模式下操作，和随后，仅利用磁控放电源(Q2)沉积至少一个包含所述材料(M2)的顶层(S3)，其中所述磁控放电源(Q2)在HIPIMS模式下操作。此外，本发明涉及具有层体系的基底。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 沉积 体系 方法 具有 | ||
【主权项】：
在基底(1)上沉积由硬质材料层形成的层体系(S)的涂布方法，其包括下列方法步骤：‑提供可抽空的工艺室(2)，该工艺室具有含蒸发材料(M1)的阴极真空电弧蒸发源(Q1)和具有含放电材料(M2)的磁控放电源(Q2)，其中所述磁控放电源(Q2)可在HIPIMS模式下操作；‑在阴极真空电弧蒸发工艺中仅利用所述阴极真空电弧蒸发源(Q1)在基底(1)的表面上沉积至少一个包含所述蒸发材料(M1)的接触层(S1)；其特征在于：在沉积该接触层(S1)后，通过所述阴极真空电弧蒸发源(Q1)和所述磁控放电源(Q2)的平行操作，以纳米结构混合层形式，特别地以混合相中的纳米层中间层(S2)形式或以纳米复合层形式，沉积至少一个包含所述蒸发材料(M1)和所述放电材料(M2)的中间层(S2)，其中所述磁控放电源(Q2)在HIPIMS模式下操作；和在于，随后，仅利用所述磁控放电源(Q2)沉积至少一个包含所述材料(M2)的顶层(S3)，其中所述磁控放电源(Q2)在HIPIMS模式下操作。
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