[发明专利]一种具有内部互连结构的片式电容及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201310312854.9 申请日: 2013-07-24
公开(公告)号: CN103515093A 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: 董一鸣;曹坤;程凯;戴洲 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十五研究所
主分类号: H01G4/228 分类号: H01G4/228;H01G4/06;H01G4/12
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 王华
地址: 210016 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种具有内部互连结构的片式电容及其制备方法,所述具有内部互连结构的片式电容包括多层本体、内电极、外电极;所述多层本体为由多层电介质层烧结得到的整体;多层本体内含有两个相对设立的内电极;多层本体的上下表面设有外电极,所述外电极通过设在多层本体上的互连孔与内电极电气互连。本发明主要采用多层陶瓷制备工艺,将流延片叠片预压制备各电介质层,并通过打孔、填孔、印刷制作内电极、溅射镀覆外电极最终得到电容产品。本发明所得产品工艺简单操作方便,相比于同外形尺寸的普通电容具有更大的电容量。
搜索关键词: 一种 具有 内部 互连 结构 电容 及其 制备 方法
【主权项】:
一种具有内部互连结构的片式电容,其特征在于:包括多层本体、内电极、外电极;所述多层本体为由多层电介质层烧结而成的整体;多层本体内含有两个相对设立的内电极,上下表面设有外电极,所述外电极通过设在多层本体上的互连孔与内电极电气互连。
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