[发明专利]有机发光结构及其制造方法及有机发光组件有效
| 申请号： | 201310285545.7 | 申请日： | 2013-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN104282844B | 公开（公告）日： | 2017-02-08 |
| 发明（设计）人： | 曾迎祥 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H01L51/52 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司72003 | 代理人： | 赵根喜,李昕巍 |
| 地址： | 201500 上海市金山区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种有机发光结构及其制造方法，该方法包括在基板上形成平坦化层，所述平坦化层包括负性光致抗蚀剂材料；利用掩膜对所述负性光致抗蚀剂材料执行曝光工艺；对经过曝光工艺后的所述负性光致抗蚀剂材料执行显影工艺，从而得到光致抗蚀剂图案，其中所述光致抗蚀剂图案包括平坦部和位于平坦部四周的凸起部，所述凸起部具有平滑表面；及在所述平坦部上形成反射电极和有机发光层，其中所述反射电极还位于所述凸起部的相对侧表面上。本发明的有机发光器件，可对OLED发出的光线进行有效集中，在相同的像素面积内增加了OLED的发光效率，同时也避免了各像素发光源之间产生混色。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 发光 结构 及其 制造 方法 组件 | ||
【主权项】：
一种制造有机发光结构的方法，包括：在基板上形成平坦化层，所述平坦化层包括负性光致抗蚀剂材料；利用掩膜对所述负性光致抗蚀剂材料执行曝光工艺；对经过曝光工艺后的所述负性光致抗蚀剂材料执行显影工艺，从而得到光致抗蚀剂图案，其中所述光致抗蚀剂图案包括平坦部和位于平坦部四周的凸起部，所述凸起部具有平滑表面；及在所述平坦部上形成反射电极和有机发光层，其中所述反射电极还位于所述凸起部的相对的侧表面上，其中，该掩膜包括：透光层和半透层；其中，仅被该透光层覆盖的区域为所述凸起部，同时被透光层和半透层覆盖的区域为所述平坦部。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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