[发明专利]一种新型的光刻胶剥离液及其应用工艺

摘要

本发明涉及一种用于去除基片上多余光刻胶的新型光刻胶剥离液。该剥离液包括用于溶解的有机溶剂，加快去胶速率的解交联催化剂，以及避免基片腐蚀的防腐蚀保护剂。该光刻胶剥离液能够缩短平常去胶周期，对人体和环境都没有毒性，而且对于曝光后发生交联的光刻胶，尤其是负性光刻胶，能够彻底清除，以防止影响其后的使用性能。除此以外，本发明还提供了利用这种光刻机剥离液工艺过程，其中不需要加热、振荡等过程，从而能够提高去胶速度，并且能够避免辅助措施有可能对基片造成的破坏等。

主权项

一种光刻胶剥离液，所述光刻胶剥离液由总溶剂、有机溶剂、解交联催化剂和防腐蚀保护剂组成；所述总溶剂为二甲基亚砜；所述解交联催化剂是有机二元酸，所述有机二元酸是乙二酸、丙二酸、对苯二酸中的至少一种，所述解交联催化剂占光刻胶剥离液总重量的4～6%。