[发明专利]一种新型的光刻胶剥离液及其应用工艺

权利要求书

1.一种光刻胶剥离液，所述光刻胶剥离液包括总溶剂、有机溶剂、解交联催化剂、防腐蚀保护剂及其它添加剂。

2.根据权利要求1所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述总溶剂为二甲基亚砜或N-甲基吡咯烷酮。

3.根据权利要求2所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述总溶剂重量百分比为68~78%。

4.根据权利要求1所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述有机溶剂是苯酚类树脂的良溶剂。

5.根据权利要求4所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述有机溶剂是酮类、多元醇及其衍生物、环醚类、酯类、胺类中的一种或一种以上的混合液。

6.根据权利要求5所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述酮类是丙酮、甲基乙基酮、环己酮、甲基异戊基酮、2-庚酮中的至少一种或一种以上的混合液。

7.根据权利要求5所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述多元醇及其衍生物是1,2-亚乙基二醇、二甘醇、丙二醇、乙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚、二甘醇单乙醚、乙二醇单乙醚乙酸酯，丙二醇单甲醚乙酸酯中的一种或一种以上的混合液。

8.根据权利要求5所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述环醚类是四氢呋喃、二恶烷中的一种或一种以上的混合液。

9.根据权利要求5所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述酯类是乳酸甲酯、乳酸乙酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、甲氧基丙酸甲酯、乙氧基丙酸乙酯、γ-丁内酯中的一种或一种以上的混合液。

10.一种光刻胶剥离液的应用工艺，其包括以下步骤：

1）在形成于基片上的导电金属膜或绝缘膜上涂覆光刻胶；

2）经过干燥、曝光的步骤，在该基片上形成光刻胶图案；

3）通过刻蚀、离子注入或金属沉积等工艺步骤将图形转移到没有光刻胶保护基片上；

将如权利要求1～20所述的光刻胶剥离液置于去胶槽中，加热到合适的温度之后并恒温；

将待剥离光刻胶的基片在恒温的剥离液中浸泡后取出；

用冲洗液冲洗基片并干燥，以彻底剥离光刻胶层；以及

在显影镜或扫描电子显微镜（SEM）下观察基片表面，确认没有光刻胶残留。