[发明专利]一种提高方阻均匀性的装置

摘要

本发明公开了一种提高方阻均匀性的装置，包括位于扩散炉管内的进气球碗，所述进气球碗包括进气端、球碗部分和排气端，所述进气端和球碗部分相互连通，所述排气端呈U型，其一端端口封闭，另一端端口与所述球碗部分连接，在排气端与球碗部分的连接处设有阀门，排气端的侧壁上设有孔。本发明的装置通过改变扩散炉管内进气球碗的结构，使待扩散物质在进气球碗中混合均匀再将混合均匀的待扩散物质均匀的喷洒到扩散炉管内，通过将待扩散物质在扩散炉管内的均匀性提高，从而实现了扩散方阻片的高均匀性，本发明的装置大大提高了方阻片内的均匀性，即使是高方阻片，方阻片内仍然可以保持高的均匀性。

主权项

一种提高方阻均匀性的装置，其特征在于：包括位于扩散炉管内的进气球碗，所述进气球碗包括进气端、球碗部分和排气端，所述进气端和球碗部分相互连通，所述排气端呈U型，其一端端口封闭，另一端端口与所述球碗部分连接，在排气端与球碗部分的连接处设有阀门，排气端的侧壁上设有孔。