[发明专利]一种微流道模具的制作方法有效
申请号: | 201310226365.1 | 申请日: | 2013-05-31 |
公开(公告)号: | CN103350982A | 公开(公告)日: | 2013-10-16 |
发明(设计)人: | 陈建刚;刘莉君 | 申请(专利权)人: | 陕西理工学院 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00;B01L3/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 723000 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 一种微流道模具的制作方法,首先制作微流道玻璃掩模板;清洗和烘烤硅片基板;在硅片基板的抛光面上滩涂SU8-2025光刻胶;前烘光刻胶;对硅片基板上的光刻胶进行光刻曝光;对光刻曝光后的光刻胶进行后烘;采用SU8显影液对光刻胶硅片基板进行显影;在硅片的抛光面上再次滩涂SU8-2025光刻胶并前烘;对硅片基板上的光刻胶进行套刻曝光;对套刻曝光后的光刻胶进行后烘;采用SU8显影液对套刻曝光后的硅片基板进行显影;清洗硅片基板模具上的微流道;对硅片基板模具上的微流道进行检测。 | ||
搜索关键词: | 一种 微流道 模具 制作方法 | ||
【主权项】:
一种微流道模具的制作方法,其特征在于:1)首先制作微流道玻璃掩模板;2)清洗和烘烤硅片基板;3)在硅片基板的抛光面上滩涂SU8‑2025光刻胶;4)前烘光刻胶;5)对硅片基板上的光刻胶进行光刻曝光;6)对光刻曝光后的光刻胶进行后烘;7)采用SU8显影液对光刻胶硅片基板进行显影;8)在硅片的抛光面上再次滩涂SU8‑2025光刻胶并前烘;9)对硅片基板上的光刻胶进行套刻曝光;10)对套刻曝光后的光刻胶进行后烘;11)采用SU8显影液对套刻曝光后的硅片基板进行显影;12)清洗硅片基板模具上的微流道;13)对硅片基板模具上的微流道进行检测。
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