[发明专利]一种基于金属Mo的抛光工艺的抛光液、其制备方法及应用

摘要

本发明公开了一种基于金属Mo的抛光工艺的抛光液、其制备方法及应用，该抛光液包含按重量百分数计为如下的原料组分：0.1%~10%的氧化剂；0.001%~5%的表面活性剂；0.01%~10%的pH值调节剂；1%~10%的磨料；余量为水；其中，该抛光液的pH值为2.0~7.0；该氧化剂选自含碘酸根的碘酸钾、碘酸钠、碘酸钙、碘酸钡中的任意一种以上。本发明提供的抛光液制备方法简便，抛光液对Mo具有较高的抛光速率，且静态腐蚀速率低，对Mo的抛光具有极高的平坦化效率。本发明提供的抛光液能用于对Mo、Mo的合金或者Mo的化合物的抛光处理。

主权项

一种基于金属Mo的抛光工艺的抛光液，其特征在于，该抛光液包含按重量百分数计为如下的原料组分：氧化剂      0.1%~10 %；表面活性剂  0.001%~5%；pH值调节剂   0.01%~10%；磨料        1%~10%；余量为水；其中，所述氧化剂选自含碘酸根的碘酸钾、碘酸钠、碘酸钙、碘酸钡中的任意一种以上。