[发明专利]一种基于金属Mo的抛光工艺的抛光液、其制备方法及应用

权利要求书

1.一种基于金属Mo的抛光工艺的抛光液，其特征在于，该抛光液包含按重量百分数计为如下的原料组分：

氧化剂      0.1%~10 %；

表面活性剂  0.001%~5%；

pH值调节剂   0.01%~10%；

磨料        1%~10%；

余量为水；

其中，所述氧化剂选自含碘酸根的碘酸钾、碘酸钠、碘酸钙、碘酸钡中的任意一种以上。

2.如权利要求1所述的基于金属Mo的抛光工艺的抛光液，其特征在于，所述抛光液的pH值为2.0~7.0。

3.如权利要求1所述的基于金属Mo的抛光工艺的抛光液，其特征在于，所述的表面活性剂选自烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、十二烷基胺、十二烷基苯磺酸盐、聚乙烯乙二醇、聚氧乙烯烷基胺中的任意一种以上。

4.如权利要求1所述的基于金属Mo的抛光工艺的抛光液，其特征在于，所述的pH值调节剂包含酸性pH值调节剂和碱性pH值调节剂，所述酸性pH值调节剂选自稀释的硝酸、硫酸、稀醋酸、盐酸中的任意一种以上；所述碱性pH值调节剂选自氢化化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸氢钠中的任意一种以上。

5.如权利要求1所述的基于金属Mo的抛光工艺的抛光液，其特征在于，所述的磨料选择二氧化硅、二氧化铈及三氧化二铝中的任意一种。

6.如权利要求1-5中任意一种所述的基于金属Mo的抛光工艺的抛光液，其特征在于，所述抛光液包含按重量百分数计为如下的原料组分：

氧化剂  1%~5 %，

表面活性剂  0.01%~1 %，

pH值调节剂  0.05%~1%，

磨料  1%~5%，

余量为水。

7.如权利要求6所述的基于金属Mo的抛光工艺的抛光液，其特征在于，所述抛光液的pH值为2.0~4.0。

8.一种如权利要求1所述的基于金属Mo的抛光工艺的抛光液的制备方法，其特征在于，将制备抛光液所需的氧化剂、表面活性剂、pH值调节剂、磨料和去离子水按权利要求1的配方比例取料，放入搅拌釜中混合搅拌均匀即可。

9.一种如权利要求1所述的基于金属Mo的抛光工艺的抛光液的用途，该抛光液能用于对Mo、Mo的合金或者Mo的化合物的抛光处理。