[发明专利]一种不含碳层的CZTS或者CZTSe薄膜的非真空制备方法有效
申请号: | 201310203876.1 | 申请日: | 2013-05-28 |
公开(公告)号: | CN103337551A | 公开(公告)日: | 2013-10-02 |
发明(设计)人: | 钟向丽;张克栋;王金斌;黄齐鸣 | 申请(专利权)人: | 湘潭大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 长沙市融智专利事务所 43114 | 代理人: | 魏娟 |
地址: | 411105 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明涉及一种不含碳层的CZTS或者CZTSe薄膜的非真空制备方法,属于薄膜太阳能电池制备技术领域。本发明的实施步骤为:将CZTS或CZTSe前驱体液,均匀地涂敷在衬底上得到湿膜;在氮气或惰性保护气氛下,对湿膜进行热分解,得到非晶干膜后,对非晶干膜进行退火处理,得到一层无碳层的多晶薄膜;在所述的无碳层多晶薄膜上继续涂敷湿膜,重复上述步骤,直至得到成品。本发明是进一步提高CZTS或者CZTSe薄膜太阳能电池光电转换效率的有效途径。本发明,制备工艺简单,所需的设备为常用设备,成本低,便于工业化生产,所得产品性能优良,具有很好的市场前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 不含碳层 czts 或者 cztse 薄膜 真空 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种不含碳层的CZTS或者CZTSe薄膜的非真空制备方法,其特征在于,包括以下步骤:将CZTS或CZTSe前驱体液,均匀地涂敷在衬底上得到湿膜;在氮气或惰性保护气氛下,对湿膜进行热分解,得到非晶干膜后,对非晶干膜进行退火处理,得到一层无碳层的多晶薄膜;在所述的无碳层多晶薄膜上继续涂敷湿膜,重复上述步骤,直至得到所需厚度的无碳层CZTS或者CZTSe薄膜;所述湿膜的厚度为100‑1000nm;所述热分解的温度为150~350℃;所述退火的温度为400~600℃,每次退火的时间为3~10min。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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