[发明专利]一种用激光化学气相沉积法制备石墨烯的方法和装置无效
| 申请号： | 201310175638.4 | 申请日： | 2013-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN103288073A | 公开（公告）日： | 2013-09-11 |
| 发明（设计）人： | 陈延平;张建寰;陈永庆;刘婷婷 | 申请（专利权）人： | 厦门大学 |
| 主分类号： | C01B31/04 | 分类号： | C01B31/04 |
| 代理公司： | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人： | 张松亭 |
| 地址： | 361000 *** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用激光化学气相沉积法制备石墨烯的方法，包括如下步骤：（1）将铜箔卡紧在一设有红外激光加热装置的反应腔内，对该反应腔进行抽真空；（2）在该反应腔内通入碳源气体和辅助气体后，用红外激光通过控制激光光斑的移动速度或调节功率密度将所述铜箔加热至900～1000℃，并移动红外激光在铜箔上的光斑以在铜箔表面产生单层石墨烯。本发明的制备方法采用激光作为热源，激光光能密度高，加热速度快，可迅速达到制备石墨烯所需的温度，无需使用的加热炉，能耗大大降低，且设置有可视化窗口，能够研究石墨烯的生长过程及原理。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 化学 沉积 法制 石墨 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种用激光化学气相沉积法制备石墨烯的方法，其特征在于：包括如下步骤：（1）将铜箔卡紧在一设有红外激光加热装置的反应腔内，对该反应腔进行抽真空；（2）在该反应腔内通入碳源气体和辅助气体后，用红外激光通过控制激光光斑的移动速度或调节功率密度将所述铜箔加热至900～1000℃，并移动红外激光在铜箔上的光斑以在铜箔表面产生单层石墨烯。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门大学，未经厦门大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310175638.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：泥炭土地基采用过渡软基处理方法
- 下一篇：一种U-PVC管道设备保温外护系统
