[发明专利]一种PECVD镀膜系统

摘要

本发明公开了一种PECVD镀膜系统，包括工艺系统、装卸系统及阀门机构；工艺系统包括工艺腔体及工艺反应室；工艺反应室设置在工艺腔体内；装卸系统包括装卸腔体及传输机械手；传输机械手滑动设置在装卸腔体与工艺腔体之间；阀门机构设置在工艺腔体与装卸腔体之间，用于工艺腔体与装卸腔体之间的连通或隔离，通过阀门机构使得传输机械手可以在腔体之间往复运动，同时保证了腔体之间的互相连通以及真空环境的相互独立；装卸腔体同时具备装载腔和中转传输腔的功能，能满足基片上下料以及在腔体之间相互传输的功能；由于只有两个腔体，结构更为简单，使得设备成本低，安装维护简单方便，传输结构简单便易，对机械精度要求低。

主权项

一种PECVD镀膜系统，其特征在于，包括工艺系统、装卸系统、及阀门机构；所述工艺系统包括工艺腔体及至少一个工艺反应室；所述工艺反应室设置在工艺腔体内，用于对基片进行镀膜；所述工艺反应室具有一朝向所述装卸腔体的开口，所述工艺反应室的开口处均设有密封门，用于工艺反应室与工艺腔体的连通或隔离；所述装卸系统包括装卸腔体及传输机械手；传输机械手滑动设置在装卸腔体与工艺腔体之间，用于基片的上下料及传输；所述阀门机构设置在所述工艺腔体与所述装卸腔体之间，用于工艺腔体与装卸腔体之间的连通或隔离。