[发明专利]判断光刻版套刻精度一致性的方法和光刻机有效
| 申请号： | 201310157519.6 | 申请日： | 2013-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN104122756A | 公开（公告）日： | 2014-10-29 |
| 发明（设计）人： | 陈辉 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 邓云鹏 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种判断光刻版套刻精度一致性的方法，在光刻制程中，包括以下步骤：以行间隔或列间隔的方式使用两块光刻版对晶圆表面曝光；将完成曝光的整片晶圆与通过单一光刻版曝光的晶圆进行比较，判断套刻精度的一致性。还公开一种应用上述方法的光刻机。上述方法及光刻机可以提高判断光刻版套刻精度一致性的评估效率和减小评估难度。 | ||
| 搜索关键词： | 判断 光刻 版套刻 精度 一致性 方法 | ||
【主权项】：
一种判断光刻版套刻精度一致性的方法，其特征在于，在光刻制程中，包括以下步骤：以行间隔或列间隔的方式使用两块光刻版对晶圆表面曝光；将完成曝光的整片晶圆与通过单一光刻版曝光的晶圆进行比较，判断套刻精度的一致性。
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