[发明专利]判断光刻版套刻精度一致性的方法和光刻机

权利要求书

1.一种判断光刻版套刻精度一致性的方法，其特征在于，在光刻制程中，包括以下步骤：

以行间隔或列间隔的方式使用两块光刻版对晶圆表面曝光；

将完成曝光的整片晶圆与通过单一光刻版曝光的晶圆进行比较，判断套刻精度的一致性。

2.根据权利要求1所述的判断光刻版套刻精度一致性的方法，其特征在于，所述以行间隔的方式使用两块光刻版对晶圆表面曝光的步骤具体为：

使用所述两块光刻版的其中一块对晶圆上处于同一行的多个曝光区域依次执行曝光；

使用所述两块光刻版的另外一块对晶圆上处于下一行的多个曝光区域依次执行曝光；

反复轮流执行上述步骤直至晶圆表面全部完成曝光。

3.根据权利要求1所述的判断光刻版套刻精度一致性的方法，其特征在于，所述以列间隔的方式使用两块光刻版对晶圆表面曝光的步骤具体为：

使用所述两块光刻版的其中一块对晶圆上处于同一列的多个曝光区域依次执行曝光；

使用所述两块光刻版的另外一块对晶圆上处于下一列的多个曝光区域依次执行曝光；

反复轮流执行上述步骤直至晶圆表面全部完成曝光。

4.一种光刻机，包括光刻模块，其特征在于，所述光刻模块包括光刻版选择模块，所述光刻版选择模块按照设定的方式选取两块光刻版以行间隔或列间隔的方式对晶圆表面曝光。

5.如权利要求4所述的光刻机，其特征在于，所述光刻版选择模块用于：

选取所述两块光刻版的其中一块对晶圆上处于同一行的多个曝光区域依次执行曝光；

选取所述两块光刻版的另外一块对晶圆上处于下一行的多个曝光区域依次执行曝光；

反复轮流执行上述步骤直至晶圆表面全部完成曝光。

6.如权利要求4所述的光刻机，其特征在于，所述光刻版选择模块用于：

选取所述两块光刻版的其中一块对晶圆上处于同一列的多个曝光区域依次执行曝光；

选取所述两块光刻版的另外一块对晶圆上处于下一列的多个曝光区域依次执行曝光；

反复轮流执行上述步骤直至晶圆表面全部完成曝光。