[发明专利]一种截留接枝制备分子印迹聚合物膜的方法

摘要

本发明提出一种截留接枝制备分子印迹聚合物膜的方法。首先按照合适比例制备功能单体、交联剂和模板的络合物溶液，然后选择合适的支撑膜对该络合物溶液进行过滤，使功能单体和模板形成的络合物恰好被截留在膜的表面，可选择再用溶剂过滤洗掉未与模板形成稳定络合物的功能单体，随后采用辐射引发的方法在膜表面接枝一层分子印迹聚合物，可采用反洗的方法把模板和未反应的物质洗掉，得到表面接枝的分子印迹膜。该分子印迹膜既保持了载体膜的较大通量和机械性能，又利于模板的洗脱和重结合，得到的MIP膜印迹效率较高，在化工分离、固相萃取、膜传感器等领域有良好的应用前景。

主权项

一种截留接枝制备分子印迹聚合物膜的方法，其特征是包括以下步骤：a)将功能单体、交联剂、模板和致孔剂溶解于溶剂中，形成功能单体质量百分比为5％‑30％、交联剂质量百分比为0.001％‑1％、模板质量百分比为0.01％‑10％，致孔剂质量百分比为0.01％‑5％的混合物溶液，通过滴加稀盐酸和氢氧化钠溶液，调整该混合物溶液的pH值，或改变溶剂的配比，使功能单体和模板形成稳定的络合物，将该络合物放置在0℃‑50℃的密闭容器中备用，用纳米激光粒度仪检测功能单体和模板形成的络合物在不同条件下的粒径大小；b)根据步骤a)测试得到的功能单体和模板形成的络合物的粒径，选择合适的膜作为基体膜，用无水乙醇清洗干净膜表面和膜孔内的杂质，并用步骤a)所用的溶剂浸润，然后对步骤a)得到的混合物溶液进行过滤操作，检测透过液中模板的浓度，计算截留率，若截留率小于90％，更换更小孔径的膜，直至截留率大于等于90％，连续截留0.1‑5h，同时记录截留过程中的通量变化；c)将步骤b)得到的表层含功能单体和模板形成的络合物的膜用步骤a)所用的溶剂过滤0.1‑2h，洗脱掉未形成络合物的功能单体，在氮气保护下辐射引发功能单体在膜表层聚合，得到含模板的聚合物接枝膜材料；d)用步骤a)所用的溶剂清洗步骤c)得到的含模板的聚合物接枝膜材料，洗脱掉未反应的功能单体、交联剂和致孔剂，用洗脱液洗脱模板分子，清洗过程包括浸泡震荡洗脱和过滤洗脱，最后得到分子印迹聚合物膜。