[发明专利]光学元件结构及用于其的光学元件制造工艺有效
| 申请号： | 201310141615.1 | 申请日： | 2013-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN103941313A | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | 曾俊豪;郭英颢;陈海清;包天一 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B6/122;G02B6/13;G02B1/10 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;孙征 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种光学元件结构和该光学元件结构的制造工艺。光学元件制造工艺包括提供其上形成有突出物的衬底；以及通过沉积方案在突出物和衬底上方形成上覆涂层以形成光学元件。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 结构 用于 制造 工艺 | ||
【主权项】：
一种光学元件制造方法，包括：提供其上形成有一组块体的衬底，每个块体都具有可控的纵横比；以及通过沉积方案在所述一组块体和所述衬底上方形成上覆涂层以根据所述纵横比形成光学元件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司，未经台湾积体电路制造股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310141615.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：偏振不敏感的高折射率超材料及其制备方法
- 下一篇：一种具有保健功能的器皿
