[发明专利]光学元件结构及用于其的光学元件制造工艺有效
| 申请号： | 201310141615.1 | 申请日： | 2013-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN103941313A | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | 曾俊豪;郭英颢;陈海清;包天一 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B6/122;G02B6/13;G02B1/10 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;孙征 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 元件 结构 用于 制造 工艺 | ||
1.一种光学元件制造方法，包括：
提供其上形成有一组块体的衬底，每个块体都具有可控的纵横比；以及
通过沉积方案在所述一组块体和所述衬底上方形成上覆涂层以根据所述纵横比形成光学元件。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光学元件是微透镜和波导中的一种。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述沉积方案是选自由旋涂方案、原子层沉积方案和基于汽相的沉积方案所组成的组中的一种。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，提供步骤进一步包括实施光刻工艺和蚀刻工艺中的一种以在所述衬底上形成所述一组块体。
5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述上覆涂层进一步包括选自由微透镜材料、滤色器材料和波导材料所组成的组中的一种材料。
6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述衬底进一步包括选自由覆盖层、印刷电路板、平面镜、凸块下金属化层、玻璃、树脂、半导体晶圆和滤色器所组成的组中的一种。
7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述一组块体进一步包括选自由烯丙基树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、苯并环丁烯、含氟聚酰亚胺、SiOxNy和旋涂介电材料所组成的组中的一种材料。
8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述一组块体具有密度参数，所述沉积方案具有旋涂速度参数，所述上覆涂层具有相对于所述一组块体的粘性参数和界面性能参数。
9.一种光学元件结构，包括：
衬底；
一组块体，形成在所述衬底上；以及
弯曲层，形成在所述一组块体和所述衬底上方。
10.一种光学元件结构，包括：
衬底；
突出物，形成在所述衬底上；以及
上覆涂层，形成在所述突出物和所述衬底上方以形成所述光学元件结构。
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