[发明专利]一种反应腔室及等离子体加工设备在审
申请号: | 201310131016.1 | 申请日: | 2013-04-16 |
公开(公告)号: | CN104109847A | 公开(公告)日: | 2014-10-22 |
发明(设计)人: | 张风港 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/509 | 分类号: | C23C16/509;C23C16/455 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;张天舒 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种反应腔室及等离子体加工设备,其由腔室周壁环绕形成,在腔室周壁上设置有贯穿其厚度的开口,并且在腔室周壁的外侧,且位于开口的一侧设置有密封侧门,密封侧门与腔室周壁可摆动的连接,用以密封或开启开口;反应腔室还包括承载装置,用以承载被加工工件,该承载装置与密封侧门固定连接,并且密封侧门在移动至密封开口的位置时,承载装置位于反应腔室内的承载位置;密封侧门在移动至开启开口的位置时,承载装置位于反应腔室外的安装位置;且承载装置经由开口在承载位置和安装位置之间移动。本发明提供的反应腔室,其便于操作人员对承载装置进行安装和维护,从而不仅可以提高安装和维护的效率,而且可以降低人力成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 反应 等离子体 加工 设备 | ||
【主权项】:
一种反应腔室,其由腔室周壁环绕形成,在所述腔室周壁上设置有贯穿其厚度的开口,并且在所述腔室周壁的外侧,且位于所述开口的一侧设置有密封侧门,所述密封侧门与所述腔室周壁可摆动的连接,用以密封或开启所述开口;所述反应腔室还包括承载装置,用以承载被加工工件,其特征在于,所述承载装置与所述密封侧门固定连接,并且所述密封侧门在移动至密封所述开口的位置时,所述承载装置位于所述反应腔室内的承载位置;所述密封侧门在移动至开启所述开口的位置时,所述承载装置位于反应腔室外的安装位置;且所述承载装置经由所述开口在所述承载位置和安装位置之间移动。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的