[发明专利]一种反应腔室及等离子体加工设备有效
申请号: | 201310123128.2 | 申请日: | 2013-04-10 |
公开(公告)号: | CN104099584B | 公开(公告)日: | 2017-07-21 |
发明(设计)人: | 张慧 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;C23C16/458 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 彭瑞欣,张天舒 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种反应腔室及等离子体加工设备,包括多层托盘、感应线圈和中央进气管,其中,每层所述托盘包括互为同心环的加热外环和隔热内环,加热外环采用导磁材料制作,被加工工件设置在加热外环的上表面,且沿其周向间隔排布一圈;隔热内环采用抗磁且绝缘的材料制作,中央进气管沿竖直方向穿过每层隔热内环的环孔,并且在中央进气管上,且位于靠近每层隔热内环的上表面的位置处分别设置有出气口,用以向反应腔室的四周喷出工艺气体。本发明提供的反应腔室可以减少工艺气体的损耗量,从而可以提高等离子体加工设备的使用成本,而且还可以减少反应腔室内的反应副产物,从而可以提高工艺的重复性和良品率。 | ||
搜索关键词: | 一种 反应 等离子体 加工 设备 | ||
【主权项】:
一种反应腔室,包括多层托盘、感应线圈和中央进气管,其中,所述多层托盘沿竖直方向间隔设置在所述反应腔室内,用以承载被加工工件;所述感应线圈环绕所述反应腔室的外周壁设置,用以采用感应加热的方式对所述托盘进行加热;所述中央进气管用于向所述反应腔室内输送工艺气体;其特征在于,每层所述托盘包括互为同心环的加热外环和隔热内环,其中所述加热外环采用导磁材料制作;所述被加工工件设置在所述加热外环的上表面,且沿其周向间隔排布一圈;所述隔热内环采用抗磁且绝缘的材料制作;所述中央进气管沿竖直方向穿过每层所述隔热内环的环孔,并且在所述中央进气管上,且位于靠近每层所述隔热内环的上表面的位置处分别设置有出气口,用以向所述反应腔室的四周喷出工艺气体;靠近每层所述隔热内环的上表面的所述出气口的数量为一个或者多个,且多个所述出气口沿所述中央进气管的轴向间隔设置;并且每个所述出气口由沿所述中央进气管的周向间隔设置的多个通孔组成;所述反应腔室还包括导气管组,所述导气管组设置在所述中央进气管上,在靠近每层所述隔热内环的上表面的位置处,每个所述导气管组包括以所述中央进气管为中心呈放射状分布的多个导气管,每个所述导气管用于将自所述通孔喷出的所述工艺气体输送至所述加热外环的上方;每个所述导气管的进气端和所述通孔连通,每个所述导气管的出气端延伸至靠近所述加热外环的内缘位置处。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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