[发明专利]具有改善的剥离和抗粘连性的有机硅剥离膜在审
| 申请号： | 201310123113.6 | 申请日： | 2013-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN103242548A | 公开（公告）日： | 2013-08-14 |
| 发明（设计）人： | 郑光洙;冰广殷;崔荣洙;玉炳胄;郑铉正 | 申请（专利权）人： | 爱思开哈斯显示用薄膜有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/04 | 分类号： | C08J7/04;C08L83/04;C09J7/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 郭辉 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在光学粘合薄膜的制备过程中保护粘合层的有机硅剥离膜和制备该剥离膜的方法，光学粘合薄膜被用于如触摸屏板(TSP)、LCD和PDP的显示装置。具体地，提供一种制备剥离膜的方法，该剥离膜与传统薄膜相比具有良好的剥离性(易于剥离)、再粘合性、存储下稳定的剥离保持以及改善的抗粘连性、良好的加工性和在涂覆层上形成粗糙表面引起的雾度轻微增加。通过该方法制备的剥离膜对于光学粘合薄膜非常有用。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 改善 剥离 粘连 有机硅 | ||
【主权项】：
一种包括聚酯基底膜和有机硅剥离层的剥离膜，其中有机硅剥离层厚度为0.5至5.0μm，并含有平均直径2至10μm的非活性颗粒。
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