[发明专利]压裂返排液处理后用于配液的成分调节装置及方法有效
申请号: | 201310108977.0 | 申请日: | 2013-03-29 |
公开(公告)号: | CN103159351A | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 吴萌;渠迎锋;台广锋;王永光;万用波;陈雁南;李强 | 申请(专利权)人: | 北京矿冶研究总院 |
主分类号: | C02F9/06 | 分类号: | C02F9/06;C02F103/10 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人: | 郑立明;赵镇勇 |
地址: | 100160 北京市丰台区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种压裂返排液处理后用于配液的成分调节装置及方法,首先经初步的除油、除泥和除砂处理后的压裂返排液进入氧化还原调节单元,去除返排液中的部分有机物、降低COD、杀菌,并调节水质的ORP在-200mV~200mV之间;然后进入离子调节单元,去除水质中的高价元素,并经过絮凝沉淀分离;之后进入酸碱度调节单元,调节水质的pH值在在6.5-8.5之间。处理后的压裂返排液可以达到去除废液中的细菌和高价离子作用,并调节水质的微观稳定性,可以作为再次配制压裂液的用水而使用。 | ||
搜索关键词: | 压裂返排液 处理 用于 成分 调节 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种压裂返排液处理后用于配液的成分调节装置,其特征在于,包括依次连接的氧化还原调节单元、离子调节单元和酸碱度调节单元;所述氧化还原调节单元包括电激发氧化装置、还原反应器;所述离子调节单元包括离子调节反应器、沉淀分离装置;所述酸碱度调节单元包括PH调节反应器。
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