[发明专利]压裂返排液处理后用于配液的成分调节装置及方法

权利要求书

1.一种压裂返排液处理后用于配液的成分调节装置，其特征在于，包括依次连接的氧化还原调节单元、离子调节单元和酸碱度调节单元；

所述氧化还原调节单元包括电激发氧化装置、还原反应器；

所述离子调节单元包括离子调节反应器、沉淀分离装置；

所述酸碱度调节单元包括PH调节反应器。

2.根据权利要求1所述的压裂返排液处理后用于配液的成分调节装置，其特征在于，还包括自动化控制装置、水质参数在线检测装置和加药装置，所述自动化控制装置与所述水质参数在线检测装置和加药装置分别连接。

3.根据权利要求2所述的压裂返排液处理后用于配液的成分调节装置，其特征在于，所述水质参数在线检测装置包括ORP在线检测仪、在线离子检测仪和在线PH检测仪。

4.一种权利要求1、2或3所述的压裂返排液处理后用于配液的成分调节装置实现压裂返排液处理后用于配液的成分调节的方法，其特征在于，包括步骤：

A、经初步的除油、除泥和除砂处理后的压裂返排液进入氧化还原调节单元，去除返排液中的部分有机物、降低COD、杀菌，并调节水质的ORP在-200mV～200mV之间；

B、步骤A的出水进入离子调节单元，去除水质中的高价元素，并经过絮凝沉淀分离；

C、步骤B的出水进入酸碱度调节单元，调节水质的pH值在在6.5-8.5之间。

5.根据权利要求4所述的压裂返排液处理后用于配液的成分调节的方法，其特征在于，所述步骤A中，使用电激发氧化技术和还原技术配合使用，首先通过电激发技术产生有效氯和有效氧，发生氧化作用，然后通过还原技术，添加还原药剂，控制出水的ORP。

6.根据权利要求5所述的压裂返排液处理后用于配液的成分调节的方法，其特征在于，所述还原药剂包括亚硫酸钠、亚硫酸钾、氯化亚铁、硫酸亚铁中的任一种或多种，还原药剂用量为待处理溶液的0.1－1％质量百分含量；

所述的电激发技术参数为电流1-30A，电压1-15V。

7.根据权利要求4所述的压裂返排液处理后用于配液的成分调节的方法，其特征在于，所述步骤B中，通过添加碳酸钠、碳酸钾、氢氧化钠和氢氧化钾中的一种或多种化学药剂，去除水质中的高价元素，并通过使用聚丙烯酰胺絮凝剂进行絮凝沉淀。

8.根据权利要求7所述的压裂返排液处理后用于配液的成分调节的方法，其特征在于，所述碳酸钠和碳酸钾添加量为待处理溶液的0.1-2%质量百分含量，所述氢氧化钠和氢氧化钾添加量为待处理溶液的0.1～1%质量百分含量，所述聚丙烯酰胺絮凝剂的添加量为待处理溶液的2～20mg/l。