[发明专利]一种光刻设备对准系统有效
| 申请号： | 201310090951.8 | 申请日： | 2013-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN104062859A | 公开（公告）日： | 2014-09-24 |
| 发明（设计）人： | 蓝科;李运锋;徐荣伟;王诗华 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种光刻设备对准系统，包括照明支路以及相干成像支路，其特征在于：所述照明支路包括双光源、光源混合器、光纤、消色差准直透镜、偏振分束器、照明透镜和对准标记；所述相干成像支路包括第一光束支路和第二光束支路，第一光束支路和第二光束支路都包括楔板、成像透镜、参考光栅以及探测器，衍射光中的第一光束返回偏振分束器后直接透过，经楔板偏折、成像透镜成像在参考光栅上，探测器接收扫描信号进行对准，衍射光中的第二光束返回偏振分束器后被反射从而与第一光束分离，再经楔板偏折、成像透镜成像在参考光栅上，探测器接收扫描信号进行对准。本发明将两束进光混合成一束光束且同轴照明标记，消除两束光之间的相对倾斜。不仅简化了系统，且提高了对准精度和工艺适应性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 设备 对准 系统 | ||
【主权项】：
一种光刻设备对准系统，包括照明支路以及相干成像支路，其特征在于：所述照明支路包括双光源、光源混合器、光纤、消色差准直透镜、偏振分束器、照明透镜和对准标记，双光源分别发出偏振态相互垂直的第一光束和第二光束，两束光经过光源混合器进行合光，再经过光纤和消色差准直透镜准直后形成同轴照明光束，同轴照明光束经过小棱镜反射后进入照明透镜，再照射到对准标记形成衍射光，衍射光返回偏振分束器；所述相干成像支路包括第一光束支路和第二光束支路，第一光束支路和第二光束支路都包括楔板、成像透镜、参考光栅以及探测器，衍射光中的第一光束返回偏振分束器后直接透过，经楔板偏折、成像透镜成像在参考光栅上，探测器接收扫描信号进行对准，衍射光中的第二光束返回偏振分束器后被反射从而与第一光束分离，再经楔板偏折、成像透镜成像在参考光栅上，探测器接收扫描信号进行对准。
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