[发明专利]一种高温光栅的制作及转移方法有效
申请号: | 201310070717.9 | 申请日: | 2013-03-06 |
公开(公告)号: | CN103149614A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
发明(设计)人: | 谢惠民;王怀喜;戴相录 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;G03F7/20 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 邸更岩 |
地址: | 100084 北京市海淀区1*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种高温光栅的制作及转移方法,属于光测力学技术领域。本发明的技术特点是通过全息光栅制作、电铸、压印、镀膜和转移的方法在试样表面制作高温光栅,只需制作全息光栅模板,即可在试样表面制作出高温光栅,无需对试件表面进行精细抛光处理,因此操作简单、容易实现;有效克服了现有技术中直接在试样表面制作高温光栅所带来的光路复杂、难调节、高温光栅制作成本高和刻蚀难以控制等不足和缺陷。 | ||
搜索关键词: | 一种 高温 光栅 制作 转移 方法 | ||
【主权项】:
一种高温光栅的制作及转移方法,其特征在于该方法包括如下步骤:1)在硬基体上均匀涂覆一层正胶光刻胶,将硬基体放入全息制栅光路中进行曝光,然后进行显影形成全息光栅;2)通过电铸技术直接在硬基体全息光栅上电铸,脱膜制得电铸全息光栅模板;3)取另一硬基体,在该硬基体上涂覆纳米热压印光刻胶,然后放入热压印平台上,再将电铸全息光栅模板放在涂有纳米热压印光刻胶的硬基体上,设定压印温度范围110℃~130℃,压力范围35MPa~45MPa,然后进行热压印,在硬基体表面得到全息光栅;4)将表面含有全息光栅的硬基体放入真空蒸镀机内进行蒸镀,在光栅表面形成高温光栅金属膜;5)试样表面用砂纸进行粗抛,将高温粘结剂涂在试样表面,然后将高温光栅金属膜粘接在试样表面,放入高温炉内高温固化,升温速率2℃/分~3℃/分,升温到170℃恒温时间为3~4小时,然后自然冷却;所述的高温粘结剂采用聚硅氮烷和碳化硼粉的混合物;6)将硬基体从试件上剥离,高温光栅金属膜直接转移到试样表面。
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