[发明专利]线性沉积源及包括该线性沉积源的真空沉积装置

摘要

本发明涉及线性沉积源及包括该线性沉积源的真空沉积装置。本发明的线性沉积源包括：坩埚，存储蒸发物质；加热部，加热所述坩埚；及侧面反射器。所述侧面反射器包围所述加热部的侧面，设置为多个。多个所述侧面反射器分别包括第一反射器及第二反射器。所述第一反射器与所述加热部隔开而结合，具有多个第一开口。所述第二反射器能够移动地与所述第一反射器结合，具有第二开口。多个所述侧面反射器的开口率是相互独立地调节的，因此能够按区域调节所述坩埚的温度，结果是能够提高线性沉积源的沉积均匀度。

主权项

1.一种线性沉积源，包括：坩埚，用于存储蒸发物质；加热部，包围所述坩埚并加热所述坩埚；及侧面反射器，包围所述加热部的侧面，设置为多个，多个所述侧面反射器分别包括：第一反射器，与所述加热部隔开而结合，在所述坩埚的高度方向全长范围内所述第一反射器具有多个第一开口；及第二反射器，能够移动地与所述第一反射器结合，在所述坩埚的高度方向全长范围内所述第二反射器具有多个第二开口，多个所述侧面反射器的开口率是相互独立地进行调节的。