[发明专利]利用响应于能量射线的耐热粘合片制造半导体器件的方法无效
申请号: | 201310066383.8 | 申请日: | 2013-03-01 |
公开(公告)号: | CN103715124A | 公开(公告)日: | 2014-04-09 |
发明(设计)人: | 朴允敏;崔城焕;金晟镇;金演秀 | 申请(专利权)人: | 东丽先端素材株式会社 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 顾晋伟;全万志 |
地址: | 韩国庆尙*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种利用响应于能量射线的耐热粘合片来制造半导体器件的方法。更具体地,本发明涉及一种用于使用具有优异的可靠性和可加工性的响应于能量射线的耐热粘合片来制造半导体器件的方法,该半导体器件通过以下方法制造:在将反应于能量射线的耐热粘合片长时间暴露于高温下的安装工艺(带后工艺)之后,层合该反应于能量射线的耐热粘合片;以及在密封过程之后,向粘合片的响应于能量射线的耐热粘合层辐照能量射线以引起交联反应,使得可以剥离粘合片而不在金属引线框的表面和密封树脂表面上留下残留物。 | ||
搜索关键词: | 利用 响应 能量 射线 耐热 粘合 制造 半导体器件 方法 | ||
【主权项】:
一种利用响应于能量射线的耐热粘合片制造半导体器件的方法,所述方法包括:(a)准备金属引线框;(b)在所述金属引线框上安装半导体芯片;(c)将所述半导体芯片导线接合至所述金属引线框的引线;(d)将导线接合至安装在其上的所述半导体芯片的所述金属引线框层合在具有能量射线透过型耐热粘合基底的响应于能量射线的耐热粘合片上,所述能量射线透过型耐热粘合基底的至少一个表面涂覆有响应于能量射线的耐热粘合层;(e)使用密封树脂密封所述半导体芯片;(f)当所述半导体芯片被完全密封时,向所述耐热基底的所述表面辐照能量射线以使所述响应于能量射线的耐热粘合层固化;以及(g)当所述响应于能量射线的耐热粘合层被完全固化时,剥离所述响应于能量射线的耐热粘合片。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东丽先端素材株式会社,未经东丽先端素材株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310066383.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造