[发明专利]电容/图像法同体积场成像传感器有效

专利信息
申请号: 201310065195.3 申请日: 2013-03-01
公开(公告)号: CN103149253A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 董向元;郭淑青;于海龙 申请(专利权)人: 中原工学院
主分类号: G01N27/22 分类号: G01N27/22;G01N21/00
代理公司: 郑州中原专利事务所有限公司 41109 代理人: 张绍琳;董晓慧
地址: 451191 河南省郑*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明公开一种电容/图像法同体积场成像传感器,包括电容层析传感器和测量管道,所述电容层析传感器包括屏蔽罩和设置在测量管外的测量电极,测量电极沿轴向两端设有端屏蔽,所述端屏蔽、测量电极和屏蔽罩是多孔网状结构,所述测量管道采用透光的玻璃材料。与现有技术相比,本发明通过光透传感器引入同测量域光学图像“硬场”信息,可增加测量信息量,实现同体积场测量,通过轴向、横断面信息互补、修正,提高检测精度,拓展测量范围,对稀相密相均可成像。
搜索关键词: 电容 图像 体积 成像 传感器
【主权项】:
一种电容/图像法同体积场成像传感器,包括电容层析传感器和测量管道(2),所述电容层析传感器包括屏蔽罩(1)和设置在测量管(2)外的测量电极(5),测量电极(5)沿轴向两端设有端屏蔽(4),其特征在于:所述端屏蔽(4)、测量电极(5)和屏蔽罩(1)是多孔网状结构,所述测量管道(2)采用透光的玻璃材料。
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