[发明专利]自参考干涉对准系统有效
申请号: | 201310064775.0 | 申请日: | 2013-03-01 |
公开(公告)号: | CN104020642A | 公开(公告)日: | 2014-09-03 |
发明(设计)人: | 李运锋 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光辉 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提出一种自参考干涉对准系统,包括:激光光源模块,用于提供所需的照明光束;光学模块,用于将照明光束照射到对准标记上,并接收携带所述对准标记X向和Y向的对准信息的反射光,所述反射光在所述光学模块的自参考干涉仪内进行波面的分裂、旋转和叠加,然后出射光学信号,其中,所述X向垂直于Y向;电子采集模块,用于将所述光学信号进行处理,获得光强信号;软件模块,用于对光强信号进行处理,进一步获得对准位置;其特征在于,所述光学模块还包括一分束汇聚单元,所述分束汇聚单元将携带所述对准标记X向和Y向对准信息的光学信号分束到不同的支路里,以实现X向和Y向对准位置的二维扫描。本发明在现有技术基础上进行了改进,可以同时实现X和Y向的二维对准,从而提高对准产率。 | ||
搜索关键词: | 参考 干涉 对准 系统 | ||
【主权项】:
一种自参考干涉对准系统,包括:激光光源模块,用于提供所需的照明光束;光学模块,用于将照明光束照射到对准标记上,并接收携带所述对准标记X向和Y向的对准信息的反射光,所述反射光在所述光学模块的自参考干涉仪内进行波面的分裂、旋转和叠加,然后出射光学信号,其中,所述X向垂直于Y向;电子采集模块,用于将所述光学信号进行处理,获得光强信号;软件模块,用于对光强信号进行处理,进一步获得对准位置;其特征在于,所述光学模块还包括一分束汇聚单元,所述分束汇聚单元将携带所述对准标记X向和Y向对准信息的光学信号分束到不同的支路里,以实现X向和Y向对准位置的二维扫描。
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