[发明专利]一种多晶硅片晶向的检测方法及检测装置有效
申请号: | 201310059668.9 | 申请日: | 2013-02-26 |
公开(公告)号: | CN103151283A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
发明(设计)人: | 付少永;熊震 | 申请(专利权)人: | 常州天合光能有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张欣 |
地址: | 213031 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提出一种多晶硅片晶向的检测方法及检测装置。根据本发明的一种方法:对于多晶硅片表面上的晶粒,通过在不同角方向照射晶粒,获得多个反射强度,并依此在极坐标系中绘制出反射图谱;通过将实际得到的反射图谱和参考反射图谱加以比对,即可确定所照射的晶粒的晶向。本发明还公开了用于实施上述方法的相应检测装置。 | ||
搜索关键词: | 一种 多晶 硅片 检测 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种多晶硅片晶向的检测方法,包括:a)用摄像装置对放置在平台上的多晶硅片拍照,其中所述摄像装置包括光源和成像探头,所述成像探头的主轴和多晶硅片表面的夹角θ为锐角;b)使所述平台和所述摄像装置发生围绕所述平台主轴的相对旋转,每次旋转角度α后重复步骤a),直至累计旋转达一周;c)对拍照得到的图像进行投影变换和配准;d)针对所述多晶硅片上的晶粒位置,获取每一图像上同一位置处的像素亮度,并按拍照时的累计旋转角度排列,得到所述晶粒的晶粒反射曲线;以及e)将所得的晶粒反射曲线和标准晶向反射曲线进行比对,以确定所述晶粒的晶向。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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