[发明专利]一种测试耐电化学迁移性能的印制电路板及其制作方法有效
申请号: | 201310030804.1 | 申请日: | 2013-01-25 |
公开(公告)号: | CN103118485A | 公开(公告)日: | 2013-05-22 |
发明(设计)人: | 俞中烨 | 申请(专利权)人: | 广东生益科技股份有限公司 |
主分类号: | H05K1/02 | 分类号: | H05K1/02;H05K3/00 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 523808 广东省东莞*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种测试耐电化学迁移性能的印制电路板,该印制电路板上设有anti-CAF(耐导电阳离子迁移)性能测试图形,anti-CAF性能测试图形包括若干两两相隔的槽型孔。通过于anti-CAF性能测试图形上开设有两两相隔的槽型孔以代替目前开设的钻孔,其中,槽型孔的开设较钻孔的开设对材料本身造成的损伤小,即为槽型孔加工时可较好地避免损伤印制电路板的玻纤布,故,当进行去污清洗时,其不会像钻孔那样极易形成较大的晕圈,并因玻纤布的损伤而产生严重的毛细作用,从而使到有效的孔间距变长,进一步提升印制电路板的anti-CAF能力。本案还提供一种测试耐电化学迁移性能的印制电路板的制作方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 测试 电化学 迁移 性能 印制 电路板 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种测试耐电化学迁移性能的印制电路板,所述印制电路板上设有anti‑CAF性能测试图形,其特征在于,所述anti‑CAF性能测试图形包括若干两两相隔的槽型孔。
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