[发明专利]一种太阳能电池制备方法有效
| 申请号: | 201310026815.2 | 申请日: | 2013-01-24 |
| 公开(公告)号: | CN103094418A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
| 发明(设计)人: | 任现坤;李秉霖;姜言森;张春艳;程亮;贾河顺;徐振华 | 申请(专利权)人: | 山东力诺太阳能电力股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 济南舜源专利事务所有限公司 37205 | 代理人: | 宋玉霞 |
| 地址: | 250103 山东省济南*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | 本发明涉及一种太阳能电池制备方法。它具体有如下步骤:1)将制绒后的硅片表面制作发射极;2)将步骤1所得硅片采用HF酸溶液进行磷硅玻璃去除;3)将步骤2所得硅片表面制作二氧化硅层;4)将步骤3所得硅片再依次采用周边刻蚀、沉积氮化硅膜、丝印正反面电极和背铝、烧结。可以有效的提高扩散方阻的均匀性,提高少数载流子寿命;另外,氧化硅的钝化作用减少了硅悬空键,减少表面态,可使短路电流密度提高0.1-1mA/cm2,开路电压提高3-10mV,转化效率提高0.1-0.5%;制作氧化硅后再进行边缘刻蚀可以有效的减少边缘漏电,提高电池的并联电阻。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 太阳能电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种太阳能电池制备方法,步骤包括:(1)将制绒后的硅片表面制作结深为0.1‑0.3微米的发射极,方阻为50‑90ohm/sq;(2)将步骤1所得硅片置于盛有1~10%氢氟酸中,反应时间30~100s,除去硅片表面上的磷硅玻璃;(3)将步骤2所得硅片表面制作一层1‑10nm的二氧化硅层;(4)将步骤3所得硅片再依次采用周边刻蚀、沉积氮化硅膜、丝印正反面电极和背铝、烧结。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
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